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        光化學高壓反應釜供應

        簡要描述:

        光化學高壓反應釜是由:特制光源,不銹鋼釜體以及控制系統組成。用于新能源,環境、新藥研發領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產。

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        巖征儀器 光化學高壓反應釜是由:特制光源,不銹鋼釜體以及控制系統組成。用于新能源,環境、新藥研發領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產。

        巖征儀器 光化學高壓反應釜技術特點

        1、光源可按照客戶要求選擇,采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器,光源光電參數及光化學反應的溫度,攪拌等參數實時數字顯示在屏幕上,國內*。

        2、光源與釜體連接部分采用技術保證耐壓氣密性,國內*。

        3、更專業的光化學釜體生產工藝:釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門,溫度測溫探桿,耐壓光源插入口等,在保證您的生產安全前提下更方便您的操作。

        4、采用浸入式光源設計,物料與光源充分接觸,光化學反應釜配備大功率攪拌電機帶動錨式攪拌槳,讓物料能均勻吸收光子能量。

        5、嵌入式一體加熱模塊結構,加熱更均勻。釜體、加熱器可完全分離。極大的方便了反應釜的拆卸工作,提高工作效率。

        6、除了提供普通廠家提供的SU316L材質的釜體外,還提供不銹鋼內襯teflon,鈦材,鎳材,哈氏合金等非標材質釜體的定做。

        巖征儀器 光化學高壓反應釜配置表

        型號YZ-GHX-HP系列
        光源類型低壓汞燈,高壓汞燈,氙氣燈,鈉燈,led燈,準分子燈
        光源冷卻形式強制水冷,采用強制導流夾套式光源冷阱
        容積5-500L
        釜體材質不銹鋼304,316L,TA2,蒙乃爾合金,哈氏合金
        設計參數設計壓力1mpa,設計溫度:250℃
        工作參數工作壓力0.5mpa,工作溫度:220℃
        攪拌設計采用磁力耦合機械式攪拌,零泄漏,攪拌轉速:0-750轉/分
        釜體開口釜蓋開有進氣口,出氣口,測溫口,光源插入口,特殊要求非標設計
        加熱方式電加熱,可選導熱油,蒸汽,及紅外加熱
        控制系統一體式控制機柜,上部控制光源,下部分控制反應釜溫度,攪拌
        光源冷卻設備大功率激光冷水機,給光源及冷凝回流提供降溫保證

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